第338章

所謂的EUV技術就是把光刻機當中最艱難的一個環節——造光的技術給克服了。

光刻機的原理其實就是投影，一塊小小的芯片上能夠放多少元器件，就是取決於光的波長。

光在這個過程中起到的作用，就是用放大。

造一個放大的透光的模子，把設計好的集成電路形狀印在模子上，然後再通過光投影到矽片上，這樣就可以在矽片上製造小尺寸的電路圖了。

在設計光刻機的圖紙的時候，其他的技術都是次要的，主要是針對光的波長