通過一些“黑科技”,比如多重曝光技術,可以將製程推進到14nm甚至更小,但這會極大地增加工藝複雜度、生產周期和成本,並對良率構成嚴峻挑戰。
良率每降低一個百分點,都意味著巨額的金錢損失。
也就是說,接下來幾年,想辦法把28nm級別的芯片搞定,然後配合國外的各種操作,有機會把2016年的技術,在2018年之前在華國搞定。
這就能拉近距離,拉近代差。
去年年底的時候,張煥召集上百家企業和
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